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材料學(xué)院劉新科博士研究成果被Semiconductor Today專(zhuān)題報(bào)道

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2017-03-03 00:00 點(diǎn)擊數(shù): Views

    近日,材料學(xué)院劉新科博士的高壓氮化鎵肖特基二極管的研究成果被Semiconductor Today專(zhuān)題報(bào)道。文章指出相比較在藍(lán)寶石襯底或硅基襯底上異質(zhì)外延的氮化鎵材料,在自支撐(free-standing)氮化鎵襯底上同質(zhì)外延的氮化鎵材料具有無(wú)法比擬的突出特點(diǎn),即材料缺陷密度超低(105-106 cm-2),相比異質(zhì)氮化鎵外延材料(1010-1012cm-2)。具有超低材料缺陷密度的自支撐氮化鎵可以提高其器件的可靠性。因此,自支撐氮化鎵電力電子器件,被認(rèn)為是繼硅基功率器件后,可應(yīng)用于下一代電力轉(zhuǎn)化系統(tǒng)(DC/DC,DC/AC,AC/DC)的關(guān)鍵元器件。另外,劉博士在高壓氮化鎵肖特基二極管主張開(kāi)展無(wú)金的硅基CMOS兼容的材料和工藝的特色研究,因?yàn)榻鹪卦诠杌牧现惺请娮硬东@復(fù)合的深能級(jí)缺陷,不利于將來(lái)采用硅基代工廠(chǎng)來(lái)實(shí)現(xiàn)氮化鎵器件的量產(chǎn)。該研究得到了國(guó)家自然科學(xué)基金,深圳市基礎(chǔ)研究布局的多項(xiàng)資金支持。

    Semiconductor Today是總部位于英國(guó)具有獨(dú)立性和非盈利性的國(guó)際半導(dǎo)體行業(yè)著名雜志,專(zhuān)注于報(bào)道化合物半導(dǎo)體和先進(jìn)硅半導(dǎo)體的重要研究進(jìn)展和最新行業(yè)動(dòng)態(tài),具有很強(qiáng)的行業(yè)影響力。

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相關(guān)連接: http://www.semiconductor-today.com/news_items/2017/feb/sinano_010217.shtml    


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